- Location
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
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Online-Ressource
- Language
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Deutsch
- Notes
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In: Tagungsband 3. Symposium Elektronik und Systemintegration ESI, S. 81-86
- Keyword
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Rauigkeit
Photoresist
Herstellung
München
- Event
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Veröffentlichung
- (where)
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Landshut
- (who)
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Hochschule für Angewandte Wissenschaften Landshut
- (when)
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2022
- Creator
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Rebhan, Matthias E.
- Contributor
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Artem, Ivanov
Marc, Bicker
Peter, Patzelt
- DOI
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10.57688/364
- URN
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urn:nbn:de:bvb:860-opus4-3641
- Rights
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
25.03.2025, 1:52 PM CET
Data provider
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.
Associated
- Rebhan, Matthias E.
- Artem, Ivanov
- Marc, Bicker
- Peter, Patzelt
- Hochschule für Angewandte Wissenschaften Landshut
Time of origin
- 2022