Nano-3D-Druck zur Sensorentwicklung

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Deutsch
Notes
In: Tagungsband 3. Symposium Elektronik und Systemintegration ESI, S. 81-86

Keyword
Rauigkeit
Photoresist
Herstellung
München

Event
Veröffentlichung
(where)
Landshut
(who)
Hochschule für Angewandte Wissenschaften Landshut
(when)
2022
Creator
Rebhan, Matthias E.
Contributor
Artem, Ivanov
Marc, Bicker
Peter, Patzelt

DOI
10.57688/364
URN
urn:nbn:de:bvb:860-opus4-3641
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
25.03.2025, 1:52 PM CET

Data provider

This object is provided by:
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.

Associated

  • Rebhan, Matthias E.
  • Artem, Ivanov
  • Marc, Bicker
  • Peter, Patzelt
  • Hochschule für Angewandte Wissenschaften Landshut

Time of origin

  • 2022

Other Objects (12)