Hochschulschrift
Aufbringung von Siliziumoxidschichten durch Plasma-CVD und Anwendung auf Beschichtungen in einer Plasma-Wirbelschicht
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
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9783183534036
3183534037
- Maße
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21 cm
- Umfang
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XIV, 146 S.
- Ausgabe
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Als Ms. gedr.
- Sprache
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Deutsch
- Anmerkungen
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Ill., graph. Darst.
Zugl.: Zürich, Eidgenössische Techn. Hochsch., Diss., 1998
- Erschienen in
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Fortschrittberichte VDI / 3 / Verein Deutscher Ingenieure ; Nr. 534, Reihe 3
- Schlagwort
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Hexamethyldisiloxan
PECVD-Verfahren
Mikrowellenplasma
Wirbelschichtverfahren
Siliciumdioxid
Dünne Schicht
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
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- Letzte Aktualisierung
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11.06.2025, 14:25 MESZ
Datenpartner
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Bayer, Christian
- VDI-Verl.
Entstanden
- 1998