Hochschulschrift

Aufbringung von Siliziumoxidschichten durch Plasma-CVD und Anwendung auf Beschichtungen in einer Plasma-Wirbelschicht

zu Verbundenen Objekten

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783183534036
3183534037
Maße
21 cm
Umfang
XIV, 146 S.
Ausgabe
Als Ms. gedr.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Zürich, Eidgenössische Techn. Hochsch., Diss., 1998

Erschienen in
Fortschrittberichte VDI / 3 / Verein Deutscher Ingenieure ; Nr. 534, Reihe 3

Schlagwort
Hexamethyldisiloxan
PECVD-Verfahren
Mikrowellenplasma
Wirbelschichtverfahren
Siliciumdioxid
Dünne Schicht

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Düsseldorf
(wer)
VDI-Verl.
(wann)
1998
Urheber

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:25 MESZ

Datenpartner

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Entstanden

  • 1998

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