Hochschulschrift

Aufbringung von Siliziumoxidschichten durch Plasma-CVD und Anwendung auf Beschichtungen in einer Plasma-Wirbelschicht

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783183534036
3183534037
Maße
21 cm
Umfang
XIV, 146 S.
Ausgabe
Als Ms. gedr.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Zürich, Eidgenössische Techn. Hochsch., Diss., 1998

Erschienen in
Fortschrittberichte VDI / 3 / Verein Deutscher Ingenieure ; Nr. 534, Reihe 3

Schlagwort
Hexamethyldisiloxan
PECVD-Verfahren
Mikrowellenplasma
Wirbelschichtverfahren
Siliciumdioxid
Dünne Schicht

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Düsseldorf
(wer)
VDI-Verl.
(wann)
1998
Urheber

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:25 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Entstanden

  • 1998

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