Hochschulschrift

Aufbringung von Siliziumoxidschichten durch Plasma-CVD und Anwendung auf Beschichtungen in einer Plasma-Wirbelschicht

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Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783183534036
3183534037
Dimensions
21 cm
Extent
XIV, 146 S.
Edition
Als Ms. gedr.
Language
Deutsch
Notes
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Zürich, Eidgenössische Techn. Hochsch., Diss., 1998

Bibliographic citation
Fortschrittberichte VDI / 3 / Verein Deutscher Ingenieure ; Nr. 534, Reihe 3

Keyword
Hexamethyldisiloxan
PECVD-Verfahren
Mikrowellenplasma
Wirbelschichtverfahren
Siliciumdioxid
Dünne Schicht

Event
Veröffentlichung
(where)
Düsseldorf
(who)
VDI-Verl.
(when)
1998
Creator

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Last update
11.06.2025, 2:25 PM CEST

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Object type

  • Hochschulschrift

Associated

Time of origin

  • 1998

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