Hochschulschrift

Design of volatile non halogenated precursors for the chemical vapor deposition (cvd) of copper: understanding key molecular properties in a cvd process feasibility study

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783831142743
3831142742
Maße
22 cm
Umfang
XII, 199 S.
Sprache
Englisch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Hergestellt on demand
Albany, Univ., Diss., 2002

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
[Köln, Stolberger Straße 370]
(wer)
R. U. Claessen
(wann)
2001
Urheber

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:27 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Entstanden

  • 2001

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