Double exposure technology for KrF lithography

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Englisch
Notes
In: Proc. SPIE 6792, 24th European Mask and Lithography Conference, 679203 (2 May 2008); https://doi.org/10.1117/12.798512

Event
Veröffentlichung
(where)
Wildau
(who)
Technische Hochschule Wildau
(when)
2008
Creator
Geisler, Sebastian
Bauer, Joachim
Haak, Ulrich
Stolarek, David
Schulz, K.
Wolf, H.
Meier, W.
Trojahn, M.
Matthus, E.
Beyer, Harald
Old, G.
Marschmeyer, Steffen
Kuck, B.

URN
urn:nbn:de:kobv:526-opus4-15176
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
25.03.2025, 1:52 PM CET

Data provider

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  • Geisler, Sebastian
  • Bauer, Joachim
  • Haak, Ulrich
  • Stolarek, David
  • Schulz, K.
  • Wolf, H.
  • Meier, W.
  • Trojahn, M.
  • Matthus, E.
  • Beyer, Harald
  • Old, G.
  • Marschmeyer, Steffen
  • Kuck, B.
  • Technische Hochschule Wildau

Time of origin

  • 2008

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