Role of electron and ion irradiation in a reliable lift-off process with electron beam evaporation and a bilayer PMMA resist system
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Englisch
- Erschienen in
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In: 10.1116/6.0001161
- Ereignis
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Veröffentlichung
- (wo)
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Aachen
- (wer)
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Universitätsbibliothek der RWTH Aachen
- (wann)
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2021
- Urheber
- DOI
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10.18154/RWTH-2021-07816
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2021090807521484229704
- Rechteinformation
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
15.08.2025, 07:35 MESZ
Datenpartner
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Beteiligte
- Sun, Bin
- Grap, Thomas
- Frahm, Thorben
- Scholz, Stefan
- Knoch, Joachim
- Universitätsbibliothek der RWTH Aachen
Entstanden
- 2021