Role of electron and ion irradiation in a reliable lift-off process with electron beam evaporation and a bilayer PMMA resist system

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
In: 10.1116/6.0001161

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Aachen
(wer)
Universitätsbibliothek der RWTH Aachen
(wann)
2021
Urheber

DOI
10.18154/RWTH-2021-07816
URN
urn:nbn:de:101:1-2021090807521484229704
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
15.08.2025, 07:35 MESZ

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Beteiligte

Entstanden

  • 2021

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