Hochschulschrift
Plasmagestütze chemische Gasphasenabscheidung mit hohen Raten
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
147 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Dresden, Techn. Univ., Diss., 1995
- Schlagwort
-
Silicium
Amorpher Zustand
Dünne Schicht
CVD-Verfahren
Hochfrequenzentladung
Prozessführung
- Urheber
-
Steinke, Olaff
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:27 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Steinke, Olaff
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