- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
147 S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Ill., graph. Darst.
Dresden, Techn. Univ., Diss., 1995
- Keyword
-
Silicium
Amorpher Zustand
Dünne Schicht
CVD-Verfahren
Hochfrequenzentladung
Prozessführung
- Creator
-
Steinke, Olaff
- Table of contents
- Rights
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
11.03.2025, 12:24 PM CET
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Steinke, Olaff
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