Hochschulschrift
Oberflächenchemie von Silicium, speziell Verhalten von Silizium bei der Si3N4-Schlickerguss-Technologie [SiN-Schlickerguss-Technologie]
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
129 S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Ill., graph. Darst.
Bayreuth, Univ., Diss., 1989
- Creator
-
Meisel, Ingrid
- Table of contents
- Rights
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
11.06.2025, 2:14 PM CEST
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
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