Hochschulschrift
Lithographieunabhängige nanoskalige MOS-Technologie auf Bulk-Silizium
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783980933865
- Maße
-
24 cm, 480 gr.
- Umfang
-
XVI, 138 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Dortmund, Techn. Univ., Diss., 2009
- Klassifikation
-
Elektrotechnik, Elektronik
- Schlagwort
-
MOS-FET
Kurzkanal-FET
Silicium
Nanotechnologie
Prozesssimulation
Prozessoptimierung
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:05 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Kallis, Klaus
- Theophano-Verl.
Entstanden
- c 2009
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