Very High Temperature Hall Sensors in a Wafer‐Scale 4H‐SiC Technology

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
In: Advanced Materials Technologies 10.1 (2024). DOI:10.1002/admt.202400046
In: Advanced Materials Technologies 10 : 1

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Erlangen
(wer)
Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg (FAU)
(wann)
2024
Urheber
Okeil, Hesham
Erlbacher, Tobias
Wachutka, Gerhard

DOI
10.1002/admt.202400046
URN
urn:nbn:de:101:1-2502070518545.535577600971
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
15.08.2025, 07:38 MESZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Okeil, Hesham
  • Erlbacher, Tobias
  • Wachutka, Gerhard
  • Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg (FAU)

Entstanden

  • 2024

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