Hochschulschrift
Wachstum epitaktischer CoSi2-Schichten durch Reaktion metallischer Doppelschichten mit Si(100)
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
125 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 1999
- Schlagwort
-
Cobaltdisilicid
Epitaxieschicht
Schichtwachstum
- Urheber
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:12 MESZ
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Objekttyp
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