Hochschulschrift
VHF-Plasmaabscheidung von amorphem Silizium : Einfluss der Anregungsfrequenz, der Reaktorgestaltung sowie Schichteigenschaften
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783891919057
3891919050
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
89 S.
- Edition
-
1. Aufl.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Zugl.: Neuchâtel, Univ., Diss., 1994
- Keyword
-
Silicium
Amorpher Halbleiter
Wasserstoff
PECVD-Verfahren
UKW
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Konstanz
- (who)
-
Hartung-Gorre
- (when)
-
1995
- Creator
-
Kroll, Ulrich Justus
- Table of contents
- Rights
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
11.03.2025, 11:51 AM CET
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Kroll, Ulrich Justus
- Hartung-Gorre
Time of origin
- 1995
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