Hochschulschrift
Oberflächen-Passivierung von kristallinem Silicium durch Aluminiumoxid
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783839612538
3839612535
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
xxx, 167 Seiten
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Illustrationen
Albert-Ludwigs-Universität Freiburg, Dissertation, 2016
- Klassifikation
-
Elektrotechnik, Elektronik
- Schlagwort
-
Silicium
Kristalliner Stoff
Passivierung
Aluminiumoxide
Passivschicht
Atomlagenabscheidung
PECVD-Verfahren
Probekörper
Degradation
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Stuttgart
- (wer)
-
Fraunhofer Verlag
- (wann)
-
2018
- Urheber
- Beteiligte Personen und Organisationen
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:11 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Kühnhold-Pospischil, Saskia
- Fraunhofer IRB-Verlag
- Fraunhofer ISE
- Fraunhofer Verlag
Entstanden
- 2018
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