Reducing the Impact of Bulk Doping on Transport Properties of Bi-Based 3D Topological Insulators

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Englisch

Bibliographic citation
In: 10.1002/pssb.202000021

Event
Veröffentlichung
(where)
Aachen
(who)
Universitätsbibliothek der RWTH Aachen
(when)
2020
Creator
Jafarpisheh, Shaham
Ju, An
Janßen, Kevin
Taniguchi, Takashi
Watanabe, Kenji
Stampfer, Christoph
Beschoten, Bernd

DOI
10.18154/RWTH-2020-04266
URN
urn:nbn:de:101:1-2021090807041019487461
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
15.08.2025, 7:24 AM CEST

Data provider

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Time of origin

  • 2020

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