Spontaneous fluctuations in a plasma ion assisted deposition : correlation between deposition conditions and vanadium oxide thin film growth

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Standort: Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main

Umfang: Online-Ressource

Sprache: Englisch

Erschienen in: In: 10.1016/j.tsf.2021.138574

Ereignis: Veröffentlichung

(wo): Aachen

(wer): Universitätsbibliothek der RWTH Aachen

(wann): 2021

Urheber: Frank, Anna
Dias, Miguel
Hieke, Stefan
Kruth, Angela
Scheu, Christina

DOI: 10.18154/RWTH-2021-03467

URN: urn:nbn:de:101:1-2021040803254426222864

Rechteinformation: Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.

Letzte Aktualisierung: 25.03.2025, 13:53 MEZ

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Beteiligte

Frank, Anna
Dias, Miguel
Hieke, Stefan
Kruth, Angela
Scheu, Christina
Universitätsbibliothek der RWTH Aachen

Entstanden

2021

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