Hochschulschrift

Herstellung und Charakterisierung von dünnen Silizium-Siliziumoxid-Schichtsystemen

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783932749490
3932749499
Maße
21 cm
Umfang
III, 156 S.
Ausgabe
1. Aufl.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
graph. Darst.
Zugl.: München, Univ., Diss., 2002

Erschienen in
Selected topics of semiconductor physics and technology ; Vol. 49

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
München
(wer)
Walter-Schottky-Inst.
(wann)
2002
Urheber
Sticht, Andreas

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:45 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Sticht, Andreas
  • Walter-Schottky-Inst.

Entstanden

  • 2002

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