Hochschulschrift
Herstellung und Charakterisierung von dünnen Silizium-Siliziumoxid-Schichtsystemen
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
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9783932749490
3932749499
- Maße
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21 cm
- Umfang
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III, 156 S.
- Ausgabe
-
1. Aufl.
- Sprache
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Deutsch
- Anmerkungen
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graph. Darst.
Zugl.: München, Univ., Diss., 2002
- Erschienen in
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Selected topics of semiconductor physics and technology ; Vol. 49
- Ereignis
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Veröffentlichung
- (wo)
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München
- (wer)
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Walter-Schottky-Inst.
- (wann)
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2002
- Urheber
-
Sticht, Andreas
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:45 MESZ
Datenpartner
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Sticht, Andreas
- Walter-Schottky-Inst.
Entstanden
- 2002