Electronic and electrocatalytic properties of nickel oxide thin films and interfacing on silicon for water splitting devices
- Weitere Titel
-
Propriétés électroniques et électrocatalytiques de film minces d'oxyde de nickel et interfaçage sur silicium pour des applications de craquage de l'eau.
Elektronische und elektrokatalytische Eigenschaften dünner Nickeloxid Schichten und deren Grenzflächeneigenschaften zu Silizium für Bauteile zur Wasserspaltung.
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
Darmstadt, Technische Universität Darmstadt, Dissertation, 2020
- Schlagwort
-
Nickel oxide
Silicon
Water
Thin films
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Darmstadt
- (wer)
-
Universitäts- und Landesbibliothek Darmstadt
- (wann)
-
2020
- Urheber
- Beteiligte Personen und Organisationen
-
Kramm, Ulrike
Klein, Andreas
Proost, Joris
Flandre, Denis
Albe, Karsten
Toupance, Thierry
Chatenet, Marian
- URN
-
urn:nbn:de:tuda-tuprints-114757
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
2025-03-25T13:51:00+0100
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
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Beteiligte
- Poulain, Raphaël
- Kramm, Ulrike
- Klein, Andreas
- Proost, Joris
- Flandre, Denis
- Albe, Karsten
- Toupance, Thierry
- Chatenet, Marian
- Universitäts- und Landesbibliothek Darmstadt
Entstanden
- 2020
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