Electronic and electrocatalytic properties of nickel oxide thin films and interfacing on silicon for water splitting devices
- Alternative title
-
Propriétés électroniques et électrocatalytiques de film minces d'oxyde de nickel et interfaçage sur silicium pour des applications de craquage de l'eau.
Elektronische und elektrokatalytische Eigenschaften dünner Nickeloxid Schichten und deren Grenzflächeneigenschaften zu Silizium für Bauteile zur Wasserspaltung.
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
-
Online-Ressource
- Language
-
Englisch
- Notes
-
Darmstadt, Technische Universität Darmstadt, Dissertation, 2020
- Keyword
-
Nickel oxide
Silicon
Water
Thin films
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Darmstadt
- (who)
-
Universitäts- und Landesbibliothek Darmstadt
- (when)
-
2020
- Creator
- Contributor
-
Kramm, Ulrike
Klein, Andreas
Proost, Joris
Flandre, Denis
Albe, Karsten
Toupance, Thierry
Chatenet, Marian
- URN
-
urn:nbn:de:tuda-tuprints-114757
- Rights
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
25.03.2025, 1:51 PM CET
Data provider
This object is provided by:
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.
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Associated
- Poulain, Raphaël
- Kramm, Ulrike
- Klein, Andreas
- Proost, Joris
- Flandre, Denis
- Albe, Karsten
- Toupance, Thierry
- Chatenet, Marian
- Universitäts- und Landesbibliothek Darmstadt
Time of origin
- 2020
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