Improved oxidation behavior of Hf0.11Al0.20B0.69 in comparison to Hf0.28B0.72 magnetron sputtered thin films
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
1 Online-Ressource.
- Sprache
-
Englisch
- Erschienen in
-
Improved oxidation behavior of Hf0.11Al0.20B0.69 in comparison to Hf0.28B0.72 magnetron sputtered thin films ; volume:14 ; number:1 ; day:17 ; month:9 ; year:2024 ; pages:1-13 ; date:12.2024
Scientific reports ; 14, Heft 1 (17.9.2024), 1-13, 12.2024
- Urheber
-
Kümmerl, Pauline
Lellig, Sebastian
Navidi Kashani, Amir Hossein
Hans, Marcus
Pöllmann, Peter J.
Löfler, Lukas
Nayak, Ganesh Kumar
Holzapfel, Damian Mauritius
Kolozsvári, Szilárd
Polcik, Peter
Schweizer, Peter
Primetzhofer, Daniel
Michler, Johann
Schneider, Jochen M.
- Beteiligte Personen und Organisationen
-
SpringerLink (Online service)
- DOI
-
10.1038/s41598-024-72134-3
- URN
-
urn:nbn:de:101:1-2501132123569.372842719570
- Rechteinformation
-
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
15.08.2025, 07:35 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Beteiligte
- Kümmerl, Pauline
- Lellig, Sebastian
- Navidi Kashani, Amir Hossein
- Hans, Marcus
- Pöllmann, Peter J.
- Löfler, Lukas
- Nayak, Ganesh Kumar
- Holzapfel, Damian Mauritius
- Kolozsvári, Szilárd
- Polcik, Peter
- Schweizer, Peter
- Primetzhofer, Daniel
- Michler, Johann
- Schneider, Jochen M.
- SpringerLink (Online service)
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