Hochschulschrift
Herstellung und Charakterisierung von high-k Metal-Gate CMOS-Transistoren
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783954043514
- Maße
-
22 cm
- Umfang
-
VI, 204 S.
- Ausgabe
-
1. Aufl.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 2012
- Klassifikation
-
Elektrotechnik, Elektronik
- Schlagwort
-
CMOS
Inverter
MOS-FET
High-k Metal-Gate-Technik
Prozessentwicklung
Niedrigtemperatur
Elektrische Eigenschaft
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Göttingen
- (wer)
-
Cuvillier
- (wann)
-
2013
- Urheber
-
Biba, Josef
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
- 11.01.2025, 14:22 MEZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Biba, Josef
- Cuvillier
Entstanden
- 2013
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