Fast and Slow Stages of Lifetime Degradation by Boron–Oxygen Centers in Crystalline Silicon
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Englisch
- Erschienen in
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In: Schmidt, J.; Bothe, K.; Voronkov, V.V.; Falster, R.: Fast and Slow Stages of Lifetime Degradation by Boron–Oxygen Centers in Crystalline Silicon. In: Physica Status Solidi (B) Basic Research 257 (2019), Nr. 1, 1900167. DOI: https://doi.org/10.1002/pssb.201900167
- Ereignis
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Veröffentlichung
- (wo)
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Hannover, Hannover
- (wer)
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Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover, Technische Informationsbibliothek (TIB)
- (wann)
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2019
- Urheber
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Schmidt, Jan
Bothe, Karsten
Voronkov, Vladimir V.
Falster, Robert
- DOI
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10.15488/9275
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2020071315124640170628
- Rechteinformation
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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25.03.2025, 13:44 MEZ
Datenpartner
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Beteiligte
- Schmidt, Jan
- Bothe, Karsten
- Voronkov, Vladimir V.
- Falster, Robert
- Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover, Technische Informationsbibliothek (TIB)
Entstanden
- 2019