Influence of plasma treatment on SiO2/Si and Si3N4/Si substrates for large-scale transfer of graphene
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Erschienen in
-
In: Scientific Reports, 11, S.
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Wildau
- (wer)
-
Technische Hochschule Wildau
- (wann)
-
2021
- Urheber
-
Lukose, R.
Lisker, Marco
Akhtar, Fatima
Fraschke, Mirko
Grabolla, T.
Mai, Andreas
Lukosius, Mindaugas
- URN
-
urn:nbn:de:kobv:526-opus4-14179
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:42 MEZ
Datenpartner
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Beteiligte
- Lukose, R.
- Lisker, Marco
- Akhtar, Fatima
- Fraschke, Mirko
- Grabolla, T.
- Mai, Andreas
- Lukosius, Mindaugas
- Technische Hochschule Wildau
Entstanden
- 2021
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