Influence of plasma treatment on SiO2/Si and Si3N4/Si substrates for large-scale transfer of graphene

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Englisch

Bibliographic citation
In: Scientific Reports, 11, S.

Event
Veröffentlichung
(where)
Wildau
(who)
Technische Hochschule Wildau
(when)
2021
Creator
Lukose, R.
Lisker, Marco
Akhtar, Fatima
Fraschke, Mirko
Grabolla, T.
Mai, Andreas
Lukosius, Mindaugas

URN
urn:nbn:de:kobv:526-opus4-14179
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
25.03.2025, 1:42 PM CET

Data provider

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  • Lukose, R.
  • Lisker, Marco
  • Akhtar, Fatima
  • Fraschke, Mirko
  • Grabolla, T.
  • Mai, Andreas
  • Lukosius, Mindaugas
  • Technische Hochschule Wildau

Time of origin

  • 2021

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