Hochschulschrift

Gate stack engineering for emerging polarization based non-volatile memories

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783744867887
3744867889
Maße
21 cm, 229 g
Umfang
XII, 137 Seiten
Ausgabe
[1. Auflage]
Sprache
Englisch
Anmerkungen
Illustrationen
Technische Universität Dresden, Dissertation, 2017

Klassifikation
Elektrotechnik, Elektronik
Schlagwort
FRAM
Hafniumdioxid
High-k-Dielektrikum
Dynamisches RAM
Zirkoniumdioxid
Stapel
Schaltverhalten
Physikalischer Effekt
Antiferroelektrizität
Nichtflüchtiger Speicher

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Norderstedt
(wer)
BoD Books on Demand
(wann)
2017
Urheber
Beteiligte Personen und Organisationen

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:19 MESZ

Datenpartner

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Entstanden

  • 2017

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