Hochschulschrift
Elektrische und mikrostrukturelle Effekte in hochdotiertem 6H-SiC nach Ionenimplantation
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
In: Forschungszentrum Rossendorf; FZR-236
- Erschienen in
-
Wissenschaftlich-technische Berichte ; FZR-236
- Schlagwort
-
Ionenimplantation
Dotierung
Akzeptor
Ausheilung
Hochtemperatur
Strahlenschaden
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Dresden, Rossendorf
- (wer)
-
Forschungszentrum Dresden, Forschungszentrum Rossendorf
- (wann)
-
2010
- Urheber
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:d120-qucosa-30566
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:41 MEZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Wirth, Hans
- Forschungszentrum Dresden, Forschungszentrum Rossendorf
Entstanden
- 2010
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