Hochschulschrift

Low temperature grown inP-based HFET : characterization and modelling

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
V, 130 S.
Sprache
Englisch
Anmerkungen
graph. Darst.
Ulm, Univ., Diss., 2001

Schlagwort
Indiumarsenid
Aluminiumarsenid
Indiumphosphid
Niedrigtemperatur
Heterostruktur-Bauelement
Feldeffekttransistor

Urheber
Lee, Li-heng

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:43 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Lee, Li-heng

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