Hochschulschrift

Low-temperature silicon deposition by means of hot-wire chemical vapour deposition

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783839618202
3839618207
Maße
21 cm
Umfang
xi, 96 Seiten
Sprache
Englisch
Anmerkungen
Illustrationen, Diagramme.
Technische Universität Carola-Wilhelmina zu Braunschweig, Dissertation, 2022

Erschienen in
Berichte aus Forschung und Entwicklung / Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik ; vol. 047

Schlagwort
Silicium
Cat-CVD-Verfahren
NMOS-Schaltung

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Stuttgart
(wer)
Fraunhofer Verlag
(wann)
[2022]
Urheber
Beteiligte Personen und Organisationen
Fraunhofer IRB-Verlag
Fraunhofer IST, Braunschweig

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:25 MESZ

Datenpartner

Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.

Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Entstanden

  • [2022]

Ähnliche Objekte (12)