Hochschulschrift
Low-temperature silicon deposition by means of hot-wire chemical vapour deposition
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783839618202
3839618207
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
xi, 96 Seiten
- Language
-
Englisch
- Notes
-
Illustrationen, Diagramme.
Technische Universität Carola-Wilhelmina zu Braunschweig, Dissertation, 2022
- Bibliographic citation
-
Berichte aus Forschung und Entwicklung / Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik ; vol. 047
- Keyword
-
Silicium
Cat-CVD-Verfahren
NMOS-Schaltung
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Stuttgart
- (who)
-
Fraunhofer Verlag
- (when)
-
[2022]
- Creator
- Contributor
- Table of contents
- Rights
-
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- Last update
-
11.06.2025, 2:25 PM CEST
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- King, Hunter John
- Fraunhofer IRB-Verlag
- Fraunhofer IST, Braunschweig
- Fraunhofer Verlag
Time of origin
- [2022]
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