Hochschulschrift

Dünnschichttransistoren mit laserkristallisiertem Silizium für integrierte Schaltungen auf Glas

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
XX, 229 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Karlsruhe, Univ., Diss., 2002 (Nur beschränkt für den Austausch)

Schlagwort
Dünnschichttransistor
Substrat
Glas
Silicium
Kristallisation
Laserinduziertes Verfahren
Schieberegister
Dünnschichttransistor
Silicium
Polykristall
Kristallisation
Excimerlaser

Urheber

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:03 MESZ

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Objekttyp

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