Hochschulschrift
Herstellung und Charakterisierung amorpher SiCN-Schichten unter technologischen Aspekten in Hinblick auf tribologische Beanspruchung
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783832274498
- Maße
-
21 cm, 293 gr.
- Umfang
-
IV, 185 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Darmstadt, Techn. Univ., Diss., 2007
- Erschienen in
-
Berichte aus der Werkstofftechnik ; Bd. 2008,5
- Schlagwort
-
Siliciumcarbonitrid
Dünne Schicht
PVD-Verfahren
Siliciumcarbonitrid
Dünne Schicht
Tribologie
Hochtemperaturverhalten
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:41 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Allebrandt, Daniel
- Shaker
Entstanden
- 2008
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