Hochschulschrift
Herstellung und Charakterisierung amorpher SiCN-Schichten unter technologischen Aspekten in Hinblick auf tribologische Beanspruchung
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783832274498
- Dimensions
-
21 cm, 293 gr.
- Extent
-
IV, 185 S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Darmstadt, Techn. Univ., Diss., 2007
- Bibliographic citation
-
Berichte aus der Werkstofftechnik ; Bd. 2008,5
- Keyword
-
Siliciumcarbonitrid
Dünne Schicht
PVD-Verfahren
Siliciumcarbonitrid
Dünne Schicht
Tribologie
Hochtemperaturverhalten
- Table of contents
- Rights
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
11.06.2025, 1:41 PM CEST
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Allebrandt, Daniel
- Shaker
Time of origin
- 2008
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