Hochschulschrift
Plasmainduzierte Abscheidung von amorphem Silicium aus Silan : vom Verständnis der chemischen Reaktionsmechanismen zur Abscheidung von hochwertigem amorphen Silicium mit grossen Depositionsraten
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
[2], 139 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
München, Techn. Univ., Diss., 1993
- Schlagwort
-
Silane
PECVD-Verfahren
Silicium
Amorpher Halbleiter
Wasserstoff
Optoelektronischer Werkstoff
- Urheber
-
Ambacher, Oliver
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:54 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Ambacher, Oliver
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