Hochschulschrift
Plasmainduzierte Abscheidung von amorphem Silicium aus Silan : vom Verständnis der chemischen Reaktionsmechanismen zur Abscheidung von hochwertigem amorphen Silicium mit grossen Depositionsraten
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
[2], 139 S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
graph. Darst.
München, Techn. Univ., Diss., 1993
- Keyword
-
Silane
PECVD-Verfahren
Silicium
Amorpher Halbleiter
Wasserstoff
Optoelektronischer Werkstoff
- Creator
-
Ambacher, Oliver
- Table of contents
- Rights
-
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- Last update
-
11.06.2025, 1:54 PM CEST
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Ambacher, Oliver
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