Monografie
Characterisation of Si-Si bonded wafers and low-k silica xerogel films by means of optical spectroscopies
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2003
- Identifier
-
968789633
Thema
Silicium ; Wafer ; Bonden ; Vergrabene Schicht ; Infrarotspektroskopie ; Siliciumdioxid ; Xerogel ; Porosität ; FT-IR-Spektroskopie ; Ellipsometrie ; Infrarotspektroskopie ; Porosität ; Xerogel ; Ellipsometrie; Hochschulschrift; Online-Publikation
Beteiligte Personen und Organisationen
- URN
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
26.01.2023, 13:56 MEZ
Objekttyp
- Monografie
Beteiligte
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