Monografie

Characterisation of Si-Si bonded wafers and low-k silica xerogel films by means of optical spectroscopies

Sprache
Englisch
Anmerkungen
Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2003
Identifier
968789633

Thema
Silicium ; Wafer ; Bonden ; Vergrabene Schicht ; Infrarotspektroskopie ; Siliciumdioxid ; Xerogel ; Porosität ; FT-IR-Spektroskopie ; Ellipsometrie ; Infrarotspektroskopie ; Porosität ; Xerogel ; Ellipsometrie; Hochschulschrift; Online-Publikation

Beteiligte Personen und Organisationen

URN
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
26.01.2023, 13:56 MEZ

Objekttyp


  • Monografie

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