Hochschulschrift | Online-Publikation
Characterisation of Si-Si bonded wafers and low-k silica xerogel films by means of optical spectroscopies
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
Dateiformat: PDF
Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2003
- Schlagwort
-
Silicium
Wafer
Bonden
Vergrabene Schicht
Infrarotspektroskopie
Siliciumdioxid
Xerogel
Porosität
FT-IR-Spektroskopie
Ellipsometrie
Infrarotspektroskopie ; Porosität ; Xerogel ; Ellipsometrie
- Urheber
- URN
-
urn:nbn:de:swb:ch1-200300354
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:48 MEZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
- Online-Publikation
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