Hochschulschrift

Physikalisch-chemische Eigenschaften von SiO2-Schichten auf plasmabehandelten Siliziumoberflächen

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783839603192
Maße
21 cm
Umfang
XXII, 177 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
graph. Darst.
Zugl.: Braunschweig, Techn. Univ., Diss., 2011

Klassifikation
Elektrotechnik, Elektronik
Schlagwort
Silicium
Wafer
Bonden
Barrierenentladung
Siliciumdioxid
Oberflächeneigenschaft
Physikalisch-chemische Eigenschaft

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Stuttgart
(wer)
Fraunhofer-Verl.
(wann)
2011
Urheber
Michel, Benedikt

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:28 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Michel, Benedikt
  • Fraunhofer-Verl.

Entstanden

  • 2011

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