Hochschulschrift
Physikalisch-chemische Eigenschaften von SiO2-Schichten auf plasmabehandelten Siliziumoberflächen
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783839603192
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
XXII, 177 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
Zugl.: Braunschweig, Techn. Univ., Diss., 2011
- Klassifikation
-
Elektrotechnik, Elektronik
- Schlagwort
-
Silicium
Wafer
Bonden
Barrierenentladung
Siliciumdioxid
Oberflächeneigenschaft
Physikalisch-chemische Eigenschaft
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Stuttgart
- (wer)
-
Fraunhofer-Verl.
- (wann)
-
2011
- Urheber
-
Michel, Benedikt
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:28 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Michel, Benedikt
- Fraunhofer-Verl.
Entstanden
- 2011
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