Hochschulschrift
Herstellung, Charakterisierung und elektrische Eigenschaften von modifizierten SiO2-Sol-Gel-Schichten für die Elektrotechnik, Elektronik
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
-
Online-Ressource
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Ilmenau, Techn. Univ., Diss., 2004
- Classification
-
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
- Keyword
-
Oberflächenmontiertes Bauelement
Widerstand
Sol-Gel-Verfahren
Modifizierte Verbindungen
Nanostrukturiertes Material
Ruß
Oberflächenmontiertes Bauelement
Widerstand
Sol-Gel-Verfahren
Modifizierte Verbindungen
Nanostrukturiertes Material
Rutheniumdioxid
Dünne Schicht
Sol-Gel-Verfahren
Siliciumdioxid
Elektrische Eigenschaft
- Creator
-
Shimamura, Aki
- URN
-
urn:nbn:de:gbv:ilm1-2004000016
- Rights
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
25.03.2025, 1:52 PM CET
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Shimamura, Aki
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Sol-Gel-Sprühbeschichtungsverfahren zur Herstellung dünner SiO2-, TiO2-, antimondotierter SnO2- und zinndotierter In2O3-Schichten
Sol-Gel abgeleitete spektralselektive Sb-dotierte SnO2-Schichten auf Glas
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Lumineszenzeigenschaften ionenimplantierter nanokristalliner SiO2-Schichten
Antiglare-Schichten über Sol-Gel-Techniken
Dünne SiO2-Folien über Sol-Gel-Techniken
Characterization of sol-gel thin films of TiO2-PbO, TiO2-Bi2O3 and TiO2-CeO2 compositions
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