Hochschulschrift

Herstellung, Charakterisierung und elektrische Eigenschaften von modifizierten SiO2-Sol-Gel-Schichten für die Elektrotechnik, Elektronik

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ilmenau, Techn. Univ., Diss., 2004

Klassifikation
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Schlagwort
Oberflächenmontiertes Bauelement
Widerstand
Sol-Gel-Verfahren
Modifizierte Verbindungen
Nanostrukturiertes Material
Ruß
Oberflächenmontiertes Bauelement
Widerstand
Sol-Gel-Verfahren
Modifizierte Verbindungen
Nanostrukturiertes Material
Rutheniumdioxid
Dünne Schicht
Sol-Gel-Verfahren
Siliciumdioxid
Elektrische Eigenschaft

Urheber
Shimamura, Aki

URN
urn:nbn:de:gbv:ilm1-2004000016
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
15.08.2025, 07:39 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Shimamura, Aki

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