Hochschulschrift
Herstellung, Charakterisierung und elektrische Eigenschaften von modifizierten SiO2-Sol-Gel-Schichten für die Elektrotechnik, Elektronik
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Deutsch
- Anmerkungen
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Ilmenau, Techn. Univ., Diss., 2004
- Klassifikation
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Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
- Schlagwort
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Oberflächenmontiertes Bauelement
Widerstand
Sol-Gel-Verfahren
Modifizierte Verbindungen
Nanostrukturiertes Material
Ruß
Oberflächenmontiertes Bauelement
Widerstand
Sol-Gel-Verfahren
Modifizierte Verbindungen
Nanostrukturiertes Material
Rutheniumdioxid
Dünne Schicht
Sol-Gel-Verfahren
Siliciumdioxid
Elektrische Eigenschaft
- Urheber
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Shimamura, Aki
- URN
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urn:nbn:de:gbv:ilm1-2004000016
- Rechteinformation
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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15.08.2025, 07:39 MESZ
Datenpartner
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Shimamura, Aki