Hochschulschrift

Sol-Gel-Sprühbeschichtungsverfahren zur Herstellung dünner SiO2-, TiO2-, antimondotierter SnO2- und zinndotierter In2O3-Schichten

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
30 cm
Umfang
V, 125 Bl.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Jena, Univ., Diss., 2000

Schlagwort
Flachglas
Beschichten
Siliciumdioxid
Sol-Gel-Verfahren
Zerstäubung
Metalloxide
Dünne Schicht
Herstellung
Sol-Gel-Verfahren
Zerstäubung

Urheber

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:58 MESZ

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Objekttyp

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