Archivale
Abschlussbericht: "Physikalisches Messverfahren zur Prozesskontrolle - MET (Multi-Epitaxie-Technik)"
Enthält u. a.: Qualitätskontrollverfahren für den Prozessschritt Mehrfachepitaxie. - Erweiterung der Kapazität zur Eindringtiefenmessung von Diffusionsschichten. - Qualitätskontrollsystem im Zyklus I des MET-Transistors SU 190. - Tabellen.
- Reference number
-
504 Mikroel Stdf 119
- Context
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Rep. 504 VEB Mikroelektronik "Karl Liebknecht" Stahnsdorf >> Verfahren >> Messverfahren/Gütesicherung
- Holding
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504 Mikroel Stdf (82315) Rep. 504 VEB Mikroelektronik "Karl Liebknecht" Stahnsdorf
- Date of creation
-
1984
- Other object pages
- Last update
-
07.04.2025, 11:38 AM CEST
Data provider
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Object type
- Archivale
Time of origin
- 1984
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