Archivale
Bericht zur Zwischenverteidigung V 2: "Physikalische Messverfahren zur Prozesskontrolle"
Enthält u. a.: Elektrische Endmesstechnik für GaAs (Galliumarsenid)/GaP (Galliumphosphid)-Einkristallscheiben. - Messverfahren zur Prozesskontrolle im Zyklus I von Si (Silizium)-Leistungsbauelementen. - Tabellen. - Patentbericht.
- Archivaliensignatur
-
504 Mikroel Stdf 33
- Kontext
-
Rep. 504 VEB Mikroelektronik "Karl Liebknecht" Stahnsdorf >> Verfahren >> Messverfahren/Gütesicherung
- Bestand
-
504 Mikroel Stdf (82315) Rep. 504 VEB Mikroelektronik "Karl Liebknecht" Stahnsdorf
- Laufzeit
-
1982-1983
- Weitere Objektseiten
- Letzte Aktualisierung
-
07.04.2025, 11:34 MESZ
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Objekttyp
- Archivale
Entstanden
- 1982-1983
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