Hochschulschrift

Ein anisotroper Plasmaätzprozess in Silizium für die Mikromechanik

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
174 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Hamburg-Harburg, Techn. Univ., Diss., 1995

Schlagwort
Siliciumbauelement
Mikromechanik
Plasmaätzen

Urheber
Hoffmann, Rainer

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:52 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Hoffmann, Rainer

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