In situ studies on atomic layer etching of aluminum oxide using sequential reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Erschienen in
-
In: Journal of vacuum science & technology. 40(3)
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Dresden
- (wer)
-
Technische Universität Dresden
- (wann)
-
2024
- Urheber
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:14-qucosa2-911382
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
14.08.2025, 10:58 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Beteiligte
- Reif, Johanna
- Knaut, Martin
- Killge, Sebastian
- Albert, Matthias
- Mikolajick, Thomas
- Bartha, Johann W.
- Technische Universität Dresden
Entstanden
- 2024
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