Hochschulschrift

Herstellung von GaN-Schichten mittels Hochtemperatur-Gasphasenepitaxie

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Freiberg, Technische Universität Bergakademie Freiberg, Dissertation, 2022

Klassifikation
Elektrotechnik, Elektronik
Schlagwort
Galliumnitrid
Hydridgasphasenepitaxie
Versetzung
MOCVD-Verfahren
Wafer
Lumineszenzdiode
Galliumnitrid
Gasphasenepitaxie
Verbindungshalbleiter
Defekt
Versetzung
Substrat

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Freiberg
(wer)
Technische Universität Bergakademie Freiberg
(wann)
2022
Urheber
Beteiligte Personen und Organisationen

URN
urn:nbn:de:bsz:105-qucosa2-797134
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:55 MEZ

Datenpartner

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Entstanden

  • 2022

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