- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783183534029
3183534029
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
XII, 137 S.
- Ausgabe
-
Als Ms. gedr.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
Zugl.: Hannover, Univ., Diss., 1999
- Erschienen in
-
Fortschritt-Berichte VDI / 2 / Verein Deutscher Ingenieure ; Nr. 534, Reihe 2
- Schlagwort
-
Wafer
Silicium
Einkristall
Rotationsschleifen
Prozessführung
Wafer
Silicium
Einkristall
Rotationsschleifen
Randschicht
Werkstoffschädigung
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Düsseldorf
- (wer)
-
VDI-Verl.
- (wann)
-
2000
- Urheber
-
Lehnicke, Sabine
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:53 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Lehnicke, Sabine
- VDI-Verl.
Entstanden
- 2000
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