Selective Exposure of Robust Perovskite Layer of Aurivillius‐Type Compounds for Stable Photocatalytic Overall Water Splitting

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
Selective Exposure of Robust Perovskite Layer of Aurivillius‐Type Compounds for Stable Photocatalytic Overall Water Splitting ; day:31 ; month:05 ; year:2023 ; extent:9
Advanced science ; (31.05.2023) (gesamt 9)

Urheber
Huang, Jie
Kang, Yuyang
Liu, Jian‐An
Chen, Ruotian
Xie, Tengfeng
Liu, Zhongran
Xu, Xiaoxiang
Tian, He
Yin, Lichang
Fan, Fengtao
Wang, Lianzhou
Liu, Gang

DOI
10.1002/advs.202302206
URN
urn:nbn:de:101:1-2023060115354973333649
Rechteinformation
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 10:45 MESZ

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Beteiligte

  • Huang, Jie
  • Kang, Yuyang
  • Liu, Jian‐An
  • Chen, Ruotian
  • Xie, Tengfeng
  • Liu, Zhongran
  • Xu, Xiaoxiang
  • Tian, He
  • Yin, Lichang
  • Fan, Fengtao
  • Wang, Lianzhou
  • Liu, Gang

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