Selective Exposure of Robust Perovskite Layer of Aurivillius‐Type Compounds for Stable Photocatalytic Overall Water Splitting
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Englisch
- Erschienen in
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Selective Exposure of Robust Perovskite Layer of Aurivillius‐Type Compounds for Stable Photocatalytic Overall Water Splitting ; day:31 ; month:05 ; year:2023 ; extent:9
Advanced science ; (31.05.2023) (gesamt 9)
- Urheber
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Huang, Jie
Kang, Yuyang
Liu, Jian‐An
Chen, Ruotian
Xie, Tengfeng
Liu, Zhongran
Xu, Xiaoxiang
Tian, He
Yin, Lichang
Fan, Fengtao
Wang, Lianzhou
Liu, Gang
- DOI
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10.1002/advs.202302206
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2023060115354973333649
- Rechteinformation
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Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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14.08.2025, 10:45 MESZ
Datenpartner
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Beteiligte
- Huang, Jie
- Kang, Yuyang
- Liu, Jian‐An
- Chen, Ruotian
- Xie, Tengfeng
- Liu, Zhongran
- Xu, Xiaoxiang
- Tian, He
- Yin, Lichang
- Fan, Fengtao
- Wang, Lianzhou
- Liu, Gang