Hochschulschrift
Präparation und Charakterisierung von gesputterten a-Si:F-Schichten
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
30 cm
- Umfang
-
90 S., Anh.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
Zugleich im Handel
Aachen, Techn. Hochsch., Math.-Naturwiss. Fak., Diss., 1987
- Schlagwort
-
Dünne Schicht
Sputtering
Silizium
Dünne Schicht
Sputtern
Silicium
- Urheber
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:20 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
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