Hochschulschrift

Beitrag zur Raffination von MG-Silicium mittels Schlacken- oder Vakuumbehandlung

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Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
30 cm
Umfang
50, [40] Bl.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Clausthal, Techn. Univ., Diss., 1993

Schlagwort
Silicium
Raffination
Schlacke
Pyrometallurgie
Silicium
Raffination
Vakuummetallurgie

Urheber

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.03.2025, 12:33 MEZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

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