Fluorinated Graphene Contacts and Passivation Layer for MoS 2 Field Effect Transistors
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Englisch
- Erschienen in
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Fluorinated Graphene Contacts and Passivation Layer for MoS 2 Field Effect Transistors ; day:09 ; month:03 ; year:2022 ; extent:6
Advanced electronic materials ; (09.03.2022) (gesamt 6)
- Urheber
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Ryu, Huije
Kim, Dong‐Hyun
Kwon, Junyoung
Park, Sang Kyu
Lee, Wanggon
Seo, Hyungtak
Watanabe, Kenji
Taniguchi, Takashi
Kim, SunPhil
van der Zande, Arend M.
Son, Jangyup
Lee, Gwan‐Hyoung
- DOI
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10.1002/aelm.202101370
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2022031014094570361040
- Rechteinformation
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Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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15.08.2025, 07:33 MESZ
Datenpartner
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Beteiligte
- Ryu, Huije
- Kim, Dong‐Hyun
- Kwon, Junyoung
- Park, Sang Kyu
- Lee, Wanggon
- Seo, Hyungtak
- Watanabe, Kenji
- Taniguchi, Takashi
- Kim, SunPhil
- van der Zande, Arend M.
- Son, Jangyup
- Lee, Gwan‐Hyoung