Fluorinated Graphene Contacts and Passivation Layer for MoS 2 Field Effect Transistors

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
Fluorinated Graphene Contacts and Passivation Layer for MoS 2 Field Effect Transistors ; day:09 ; month:03 ; year:2022 ; extent:6
Advanced electronic materials ; (09.03.2022) (gesamt 6)

Urheber
Ryu, Huije
Kim, Dong‐Hyun
Kwon, Junyoung
Park, Sang Kyu
Lee, Wanggon
Seo, Hyungtak
Watanabe, Kenji
Taniguchi, Takashi
Kim, SunPhil
van der Zande, Arend M.
Son, Jangyup
Lee, Gwan‐Hyoung

DOI
10.1002/aelm.202101370
URN
urn:nbn:de:101:1-2022031014094570361040
Rechteinformation
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
15.08.2025, 07:33 MESZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Ryu, Huije
  • Kim, Dong‐Hyun
  • Kwon, Junyoung
  • Park, Sang Kyu
  • Lee, Wanggon
  • Seo, Hyungtak
  • Watanabe, Kenji
  • Taniguchi, Takashi
  • Kim, SunPhil
  • van der Zande, Arend M.
  • Son, Jangyup
  • Lee, Gwan‐Hyoung

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