Diffusion of Phosphorus and Boron from Atomic Layer Deposition Oxides into Silicon
- Location
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
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Online-Ressource
- Language
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Englisch
- Bibliographic citation
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Diffusion of Phosphorus and Boron from Atomic Layer Deposition Oxides into Silicon ; volume:216 ; number:17 ; year:2019 ; extent:7
Physica status solidi / A. A, Applications and materials science ; 216, Heft 17 (2019) (gesamt 7)
- Creator
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Beljakowa, Svetlana
Pichler, Peter
Kalkofen, Bodo
Hübner, René
- DOI
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10.1002/pssa.201900306
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2022080806353225138874
- Rights
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Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
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15.08.2025, 7:26 AM CEST
Data provider
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.
Associated
- Beljakowa, Svetlana
- Pichler, Peter
- Kalkofen, Bodo
- Hübner, René