Diffusion of Phosphorus and Boron from Atomic Layer Deposition Oxides into Silicon

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Englisch

Bibliographic citation
Diffusion of Phosphorus and Boron from Atomic Layer Deposition Oxides into Silicon ; volume:216 ; number:17 ; year:2019 ; extent:7
Physica status solidi / A. A, Applications and materials science ; 216, Heft 17 (2019) (gesamt 7)

Creator
Beljakowa, Svetlana
Pichler, Peter
Kalkofen, Bodo
Hübner, René

DOI
10.1002/pssa.201900306
URN
urn:nbn:de:101:1-2022080806353225138874
Rights
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
15.08.2025, 7:26 AM CEST

Data provider

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