The role of interface and exchange processes in forming and switching of $ZrO_2}$ ZrO2 based ReRAM devices

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
RWTH Aachen University, Dissertation, 2020

Klassifikation
Elektrotechnik, Elektronik
Schlagwort
Resistives Schalten
Schichtdicke
Zirkoniumdioxid
Widerstand
Oxidschicht
Resistive RAM
Photoemissionselektronenmikroskopie

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Aachen
(wer)
Universitätsbibliothek der RWTH Aachen
(wann)
2020
Urheber
Beteiligte Personen und Organisationen

DOI
10.18154/RWTH-2020-07858
URN
urn:nbn:de:101:1-2023032902385560090380
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:42 MEZ

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Beteiligte

Entstanden

  • 2020

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