- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783826549786
3826549783
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
XIII, 127 S.
- Ausgabe
-
Als Ms. gedr.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Braunschweig, Techn. Univ., Diss., 1999
- Erschienen in
-
Berichte aus der Mikro- und Feinwerktechnik ; Bd. 3
- Schlagwort
-
Silicium
Wafer
Laserablation
Neodym-YAG-Laser
Fokussierung
Gold
Dünne Schicht
Silicium
Wafer
Laserablation
Neodym-YAG-Laser
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Aachen
- (wer)
-
Shaker
- (wann)
-
1999
- Urheber
-
Dauer, Stefan
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:29 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Dauer, Stefan
- Shaker
Entstanden
- 1999
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